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方次尹;
抛光技术; 复合平面; 抛光轮; 电化学; 表面粗糙度; 金属表面; 极大规模集成电路; 电解液; 超镜面; 钝化膜;
机译:使用CEO_2-TiO_2复合光催化剂和PS / CEO_2核心/壳磨料,采用CEO_2-TiO_2复合光催化剂的无耐刮擦4H-SIC表面的新型光电化学组合机械抛光技术
机译:不锈钢电化学机械抛光技术的金属去除率-电化学特性
机译:石墨烯氧化碳 - 碳点复合嵌入式分子印迹聚合物的平面施工用于双扩增和选择性电化学对芦梨醇的选择性电化学
机译:电化学磨料带抛光技术在压缩机曲轴中的研究与应用
机译:层间介电层和铜化学机械平面化中主流和替代性调理和抛光技术的表征和建模。
机译:电化学提示调节平面上皮极化过程中质膜上卷曲/去杂复合物的组装
机译:根据不同的抛光技术评价三种复合树脂的表面粗糙度评价三种复合树脂的表面粗糙度,采用不同的抛光技术
机译:硼铝复合材料的一般平面应力破坏。第二部分。第一阶段:用于表征硼/铝复合材料的圆柱管的理论分析。第二阶段:用于表征硼/铝复合材料的圆柱管的塑性和组合载荷分析。
机译:在化学机械抛光过程中表征消耗性材料组合的平面化特性的方法;模拟技术和抛光技术
机译:使用复合材料的复合材料,电化学活性材料复合材料,包含复合材料的电极或包含电化学活性材料复合材料的锂电池,包含电极的锂电池,包含复合材料的场发射装置,包含复合材料的复合材料,包含该复合材料的电极,包含该复合材料的传感器,半导电的
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