基于永磁体的平面磁流变抛光技术的研究

目录

摘要

1绪论

1．1课题背景及意义

1．2国内外研究现状

1．3大面积励磁的磁流变抛光研究现状

1．4磁流变抛光损伤研究进展

1．5课题主要研究工作

1．5．1主要研究内容及重点

1．5．2课题研究方案

1．6本章小结

2磁流变抛光去除机理及实验方案

2．1磁流变抛光去除机理研究

2．2永磁体选型及单组磁极结构

2．3单组磁极抛光头设计

2．4平面磁流变抛光实验平台

2．4．1平面磁流变抛光实验平台

2．4．2操作流程

2．5磁流变抛光液循环系统

2．6磁流变液的配制

2．7K9玻璃基片的精磨准备

2．8实验测试仪器

2．9本章小结

3单组磁极抛光头去除特性研究

3．1磁流变抛光材料去除数学模型

3．2单组磁极抛光头的加工间距实验

3．3单组磁极抛光头的去除特性

3．4本章小结

4多组磁极抛光头去除特性研究

4．1多组磁极磁流变抛光加工原理

4．2多组磁极抛光头位置调整

4．3多组磁极抛光头抛光去除研究

4．4大面积平面工件抛光

4．5本章小结

5结论与展望

参考文献

攻读硕士学位期间发表的论文及成果

致谢

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