抛光技术

摘要： 对现有的提高产品表面粗糙度的技术手段进行调研、分析,引入新的技术方案,解决医疗器械行业的痛点问题。

摘要： 氟化钙(Calcium fluoride,CaF_(2))晶体是一种非常重要的光学晶体,因其具备高透射率和良好的长期辐射稳定性被广泛应用于光学仪器中。随着光刻技术向较短波长的发展,CaF_(2)更是成为极紫外光刻物镜的首选材料。CaF_(2)是一种典型的脆性材料,断裂韧性很低,一般通过抛光加工制成CaF_(2)光学表面,所以其抛光加工技术与工艺尤其重要。总结了CaF_(2)的主要加工方法、工艺及研究成果,介绍了其粗加工阶段所涉及的超精密切削和固结磨料研磨方法;重点从超精密抛光这一方面,较全面地概述了浮法抛光、化学机械抛光、固结磨料抛光、磁流变抛光、振动辅助固结磨料抛光和离子束抛光等抛光方法的原理及进展,并对以上加工方法进行对比;最后,对CaF_(2)抛光加工技术的未来发展方向做了初步展望。希望能为CaF_(2)加工领域后续深入研究提供参考。

摘要： 就目前而言,碳化硅抛光方法依旧存在损伤大、效率低、有污染等问题,因此研发一种高精高效单晶碳化硅表面抛光技术极为重要.文章提出光催化辅助化学机械抛光与机械研磨组合的工艺技术,获得表面粗糙度约为0.47nm,基本能够满足超光滑、低损伤且高效的抛光要求.

摘要： 由于蓝宝石材料硬度大、脆性高和耐腐蚀,传统的铜抛和化学机械抛光方法存在着加工效率低、成本高和污染环境等缺点。本文基于固相反应原理提出了软硬混合磨料抛光蓝宝石衬底的新构想,开展了针对蓝宝石衬底的混合磨料抛光技术研究。通过理论和试验的方法研究了不同种类软磨料与蓝宝石在研抛条件下的反应活性。研究表明在摩擦力诱导的条件下,二氧化硅较氧化镁和氧化铁磨料对蓝宝石具有更高的反应活性,最易与蓝宝石发生固相化学反应生成硅酸铝盐。

摘要： 本文简要介绍立车结合自制抛光机在盾体加工上的运用,该方法取代了传统的工件抛光工艺,提高了产品的生产效率,节约了成本.

摘要： CP920T拥有着其他自动化精加工设备所不具备的全方位的一目了然的软件优势。作为整套解决方案的核心技术,Cybermotion能够在无编程的条件下执行高精度的轨迹运动。所有的加工轨迹通过工件的三维模型生成并可方便抛光师进行调整。抛光师可通过用户友好的操作界面将抛光技术直接传输并运用到设备上。

摘要： 随着光电通信及半导体照明技术的迅速发展,超光滑平面元器件需求越来越大。该类器件表面要求达到亚纳米级表面粗糙度、微米级面形精度且无表面和亚表面损伤,传统超精密抛光技术难以兼顾效率、成本及损伤等多方面的要求,无法适应大批量生产。论文在对比分析国内外超光滑表面加工技术的基础上,提出了一种大抛光模磁流变超光滑平面抛光技术,为面形精度在微米级的超光滑平面提供一种高效低廉的无损抛光加工方法,大幅增加瞬时抛光面积,显著提高了抛光效率。论文的研究成果对提高我国光电通信、半导体、LED、3C器件的加工技术水平,建立拥有自主知识产权的高效、无损、超光滑平整加工技术,具有重要的理论和实际意义。

摘要： 研究了基于滚筒式机械化轮毂抛光技术.详细介绍了轮毂抛光机的研制技术,主要包括机械方案的比较确定和滚筒抛光机的研制;通过运用数学建模以及力学方面的知识与理论,重点分析了轮毂滚筒Ⅰ型和滚筒Ⅱ型抛光机的工作性能等.此技术的研究在一定程度下为定量分析磨料磨削实验提供指导和分析方法.

摘要： 多层膜光栅传递标准是计量和表征纳米尺度器件线宽小于50nm的有效工具,光栅样品的制备主要包括镀膜、切割、胶合、抛光和选择性刻蚀.抛光技术对于光栅样品截面的粗糙度有着较大的影响,而粗糙度是影响多层膜光栅能否作为传递标准的一个重要因素.采用不同的抛光方式,利用原子力显微镜(AFM)对其截面进行表征,通过优化抛光技术不断降低截面的粗糙度,制备出了粗糙度小于1nm的样品.

摘要： 本论文首先介绍了磁流体的一些基础知识,包括磁流体的成分、分类以及磁流体在工业上的一些应用,并重点介绍了磁流体抛光技术的发展情况和基本原理.然后对超导腔及其表面处理工艺做了一个简单的介绍,包括超导腔的一些基本知识,对其表面存在问题进行的一些简单分析,并重点对目前常用的两种表面处理方法——缓冲化学抛光和电抛光进行了简单的介绍和客观的分析.最后参照前人文献和自己的理解,以HWR腔体(二分之一波长腔)为例,结合HWR腔的具体结构,给出将磁流体抛光技术应用于HWR腔体表面处理的建议流程图,并对所用磁流体的配制、磁场强度、液体流速、腔体转速等相关参数进行了讨论.

摘要： 计算机控制的确定性抛光技术使光学镜面的抛光效率得到了较大的提高.基于计算机控制的球形磨头抛光技术,具有去除函数束径小、稳定好,因而具有较好的修正边缘效应以及局部面形误差的能力.为简化该抛光机构的结构,对其进行了路径规划,并对一块微晶球面镜进行了抛光,使面形误差从最大非球面度10.6677μm收敛到PV: 0.365λ,rms: 0.024λ(lλ=632.8nm),抛光的结果验证了该技术的修形能力.

摘要： 近年来,随着手机从按键式向触摸屏转变,特别是苹果手机对手机应用带来的变革,市场对液晶面板显示质量需求越来越高,不仅是面板厚度要求越来越薄,同时对面板表面划痕要求也越来越高.通过精密分级抛光粉最大颗粒和悬浮性对抛光过程划痕影响的测试研究表明,控制抛光粉的最大颗粒粒径以及保持抛光液良好悬浮性,可有效地消除抛光的划痕现象.

摘要： 近年来,随着手机从按键式向触摸屏转变,特别是苹果手机对手机应用带来的变革,市场对液晶面板显示质量需求越来越高,不仅是面板厚度要求越来越薄,同时对面板表面划痕要求也越来越高.通过精密分级抛光粉最大颗粒和悬浮性对抛光过程划痕影响的测试研究表明,控制抛光粉的最大颗粒粒径以及保持抛光液良好悬浮性,可有效地消除抛光的划痕现象.

摘要： 近年来,随着手机从按键式向触摸屏转变,特别是苹果手机对手机应用带来的变革,市场对液晶面板显示质量需求越来越高,不仅是面板厚度要求越来越薄,同时对面板表面划痕要求也越来越高.通过精密分级抛光粉最大颗粒和悬浮性对抛光过程划痕影响的测试研究表明,控制抛光粉的最大颗粒粒径以及保持抛光液良好悬浮性,可有效地消除抛光的划痕现象.

摘要： 近年来,随着手机从按键式向触摸屏转变,特别是苹果手机对手机应用带来的变革,市场对液晶面板显示质量需求越来越高,不仅是面板厚度要求越来越薄,同时对面板表面划痕要求也越来越高.通过精密分级抛光粉最大颗粒和悬浮性对抛光过程划痕影响的测试研究表明,控制抛光粉的最大颗粒粒径以及保持抛光液良好悬浮性,可有效地消除抛光的划痕现象.

摘要： 近年来,随着手机从按键式向触摸屏转变,特别是苹果手机对手机应用带来的变革,市场对液晶面板显示质量需求越来越高,不仅是面板厚度要求越来越薄,同时对面板表面划痕要求也越来越高.通过精密分级抛光粉最大颗粒和悬浮性对抛光过程划痕影响的测试研究表明,控制抛光粉的最大颗粒粒径以及保持抛光液良好悬浮性,可有效地消除抛光的划痕现象.

摘要： 近年来,随着手机从按键式向触摸屏转变,特别是苹果手机对手机应用带来的变革,市场对液晶面板显示质量需求越来越高,不仅是面板厚度要求越来越薄,同时对面板表面划痕要求也越来越高.通过精密分级抛光粉最大颗粒和悬浮性对抛光过程划痕影响的测试研究表明,控制抛光粉的最大颗粒粒径以及保持抛光液良好悬浮性,可有效地消除抛光的划痕现象.

摘要： 为了实现锥形筒子络纱时的等速和等密度卷绕，槽筒表面上设计有左右旋往复式大导程、变螺距、变旋转角以及变深度的锥形螺旋沟槽。分析了传统抛光的缺点,认为传统抛光是以被抛光工件的表面形状为基准的"被动"仿形.提出了"主动"仿形的概念,并对"主动"仿形的原理进行了分析计算,给出了计算公式和参数选取的原则.在此基础上建立了"主动"仿形的抛光方法:以金属槽筒螺旋槽设计曲线为基准,通过控制运动关系,合成出符合设计要求的虚拟曲线;通过运动调整,使游离态磨料形成与虚拟螺旋线相契合的螺旋磨料流,并按虚拟螺旋线进行抛光.初步抛光试验结果表明,该抛光方法实现了对金属槽筒螺旋槽的自动抛光,解决了人工操作生产周期长、表面一致性差、质量不稳定等问题.同时,也为类似零件实现自动抛光提供了一种新的思路和方法.

摘要： 本发明提供作为具有席夫碱的二醇或其衍生物的含席夫碱的扩链剂，另外，还提供使用其制造的聚氨酯及其改性方法、包含聚氨酯的抛光层、使用了该抛光层的抛光方法。

摘要： 本发明涉及废渣再利用技术领域，具体涉及一种用玻璃抛光废渣颗粒再生技术制备盖板玻璃用稀土抛光粉的方法，包括如下步骤：除杂、混料、焙烧、制浆、碱洗、压滤、水洗、酸洗、湿法球磨、压滤、萃取除杂、颗粒凝聚、压滤、焙烧、粉碎、分级；本发明的有益效果为：本发明采用了部分溶解与颗粒二次凝聚技术，以难溶氟化物为核，通过包覆使细小颗粒紧密团聚在一起，表面形成的稀土化合物物通过煅烧与中心的氟化物反应，既恢复了团聚颗粒的棱角又增加了再生稀土抛光粉的团聚强度；本发明可以将抛光废渣中的有效元素高效回收，稀土元素回收率可达90%以上，所产出的再生稀土抛光粉能够满足盖板玻璃抛光对抛光速度及表面质量的严苛要求。

摘要： 本发明涉及废渣再利用技术领域，具体涉及一种用玻璃抛光废渣压坯烧结技术制备磨盘用稀土抛光粉的方法，包括如下步骤：调浆、过滤、湿法球磨、气浮除杂、多级曝气、升温搅拌、压滤、重结晶、离心分离、蒸馏、精馏、调浆洗涤、烘干、压坯、烧结和破碎、分级、混料包装；本发明是采用了压坯烧结技术使抛光废渣中的细小颗粒再次紧密团聚在一起，通过煅烧使各细小颗粒之间发生固相反应，氟元素在颗粒间迁移形成新的氟氧化物，由于颗粒的紧密接触限制了晶粒的球形化，从而形成了多个非球形结合面，使得再生的抛光粉团聚颗粒的棱角又增加了，同时提升了再生抛光粉的团聚强度。

摘要： 一种抛光基板的方法，包括以下操作：在抛光站处抛光基板上的导电层；用原位涡流监测系统监测所述层，以针对所述层上的多个不同位置产生多个测量的信号值；产生所述位置的厚度测量结果；以及基于厚度测量结果来检测抛光终点或修改抛光参数。导电层由具有第一电导率的第一材料形成。所述产生操作包括以下操作：基于多个测量的信号值来计算初始厚度值，并且通过神经网络处理初始厚度值以产生经调整的厚度值，所述神经网络使用了通过测量校准基板而获得的训练数据进行训练，所述校准基板具有由第二材料形成的导电层，所述第二材料具有小于第一电导率的第二电导率。

摘要： 一种基于力流变抛光技术的滚珠丝杠抛光方法，加工过程中，抛光液随传送带运送到丝杠下方，与丝杠滚道发生接触，抛光液与丝杠之间的相对速度超过设定阈值时而产生力流变效应，抛光液中均匀分布的聚合物汇聚与磨粒一起形成“粒子簇”，在高剪切速度下，由于丝杠处于自转运动，“粒子簇”在丝杠的滚道部位流动，使得“粒子簇”与滚道部位充分接触。本发明利用抛光液的力流变效应，提供一种滚珠丝杠表面的高效、高质量和柔性抛光的方法及装置。

摘要： 一种基于力流变抛光技术的滚珠丝杠抛光方法，加工过程中，抛光液随传送带运送到丝杠下方，与丝杠滚道发生接触，抛光液与丝杠之间的相对速度超过设定阈值时而产生力流变效应，抛光液中均匀分布的聚合物汇聚与磨粒一起形成“粒子簇”，在高剪切速度下，由于丝杠处于自转运动，“粒子簇”在丝杠的滚道部位流动，使得“粒子簇”与滚道部位充分接触。本发明利用抛光液的力流变效应，提供一种滚珠丝杠表面的高效、高质量和柔性抛光的方法及装置。

摘要： 一种基于毛刷辅助的力流变抛光技术的轮毂抛光方法，机械臂按要求调节到相应位置，使毛刷抛光头与轮毂表面接触，将抛光液倒入抛光液回收装置，启动毛刷自转电机、轮毂自转电机、抛光液泵，抛光液通过软管输送至毛刷抛光头，在毛刷抛光头的驱动下和轮毂产生相对运动，形成力流变效应，非牛顿流体抛光液的粘度迅速上升，形成“固着磨具”并粘附在毛刷抛光头上，通过机械臂对毛刷抛光头位置与姿态的调整，实现对轮毂不同位置曲面的抛光。本发明提出一种基于毛刷辅助的力流变抛光技术的适用于轮毂、高效、高质量的抛光方法。

摘要： 本发明提供了一种大块非晶及纳米晶合金表面化学抛光技术，包括化学抛光处理的常规工艺：机械前处理→碱洗除油→热水洗→稀硝酸→水洗→烘干，以及常规工艺烘干工序后的工艺为：化学抛光→水洗→钝化→中和→热水洗→烘干。本发明还提供了所述大块非晶及纳米晶合金表面化学抛光技术使用的由抛光剂主体、辅助剂、表面活性剂、稳定剂及光亮剂组成的化学抛光液及其材料成份为，针对于用金属模铸法或者粉末冶金法得到有较大边缘毛刺以及表面流纹、凹坑等缺陷大块非晶及纳米晶的产品。采用本发明所进行的化学抛光处理，处理的效果明显优于机械抛光，可与电化学抛光相媲美，本发明化学抛光处理的投资小，加工成本低，工艺流程短，控制要素合理且简单。

摘要： 一种基于力流变抛光技术的滚珠丝杠抛光装置，包括抛光液槽、传送带装置、安装底盘和龙门架，所述抛光液槽用于盛放抛光液，所述传送带装置固定在抛光液槽上方，所述安装底盘用于固定抛光液槽的位置以及确定龙门架的运动轨迹；所述龙门架可左右滑动地安装在导轨上，所述龙门架与用于带动龙门架左右往复运动的左右驱动电机连接，两个丝杠夹具分别固定在龙门架上，两个丝杠夹具之间为供待抛光滚珠丝杠装配的工位，所述传送带装置位于所述工位的下方，其中一个丝杠夹具与自转驱动电机的输出轴连接，另一个丝杠夹具安装在龙门架上。本实用新型能实现均匀加工丝杠表面。

摘要： 一种基于毛刷辅助的力流变抛光技术的轮毂抛光装置，包括抛光盘、机械臂、毛刷自转机构和用于带动轮毂转动的轮毂自转机构，所述轮毂自转机构位于抛光盘内，所述毛刷自转机构包括电机、轴套、空心轴和毛刷抛光头，所述电机的输出轴上通过轴套与空心轴连接，所述轴套内设有抛光液进料口，所述空心轴的下端与毛刷抛光头连接，所述毛刷抛光头位于所述轮毂自转机构的上方，所述电机安装在所述机械臂的动作端。本实用新型提出一种基于力流变抛光技术的适用于轮毂、高效、高质量的抛光装置。