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穆启道; 曹立新;
无;
光刻技术 ; 光刻胶 ; 发展; 应用; 超大规模集成电路 ;
机译:应用于蓝宝石衬底的双层光刻胶互补光刻技术,用于产生亚微米图案
机译:新型光刻胶的光刻技术在细胞图案化中的应用
机译:使用0.33NA EUV光刻技术对逻辑和存储器的光刻胶挑战
机译:亚15飞秒激光显微镜在铟锡氧化物薄膜中激光诱导的周期性表面结构的产生和ma-N光刻胶的双光子光刻技术在液晶电池中的应用。
机译:精密准分子激光光刻技术,用于带有厚光刻胶的圆柱形基板。
机译:SU-8光刻胶的185 nm扩散光光刻技术原型制作的具有轴突分离的微流体长期梯度发生器
机译:使用真空光刻胶的干涉光刻技术形成大面积亚微米周期等离子体激元结构
机译:mm-Wave腔/速调管在高级光子源中使用深X射线光刻技术的发展
机译:可用于光刻技术的光刻胶组合物,其尺寸要求极小,且光刻胶的形成方法
机译:用于制造半导体器件的光刻技术中使用的光刻胶灵敏度评估方法和制造光刻胶的方法
机译:浸没透镜阵列,用于通过光刻技术进行光刻胶制图
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