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刘仲恒; 孟广为; 赵英奎;
北京应用物理与计算数学研究所 北京 100094;
高Z等离子体; 烧蚀压; 约束烧蚀; 低Z泡沫;
机译:具有等离子体射流横向流出的高纯烧蚀等离子体的同轴介电源
机译:等离子体射流横向流动的材料同轴几何介电高纯烧蚀等离子体来源
机译:比较干法和湿法等离子体使用激光烧蚀和溶液雾化的电感耦合等离子体中的基质效应,干法和湿法等离子体条件下使用激光烧蚀和溶液雾化的基质效应
机译:高功率离子束作用下靶材烧蚀等离子体与环境气体之间的等离子体化学反应制备多组分薄膜
机译:高特遗址的克洛维斯迁移率:使用激光烧蚀-电感耦合等离子体质谱法(LA-ICP-MS)进行的cher石来源研究。
机译:飞秒激光脉冲烧蚀中空气等离子体和硅等离子体膨胀的结构介导激发
机译:通过Ws2多壁纳米管的高功率等离子体烧蚀获得单壁至三壁Ws2纳米管
机译:紫外飞秒和纳秒激光烧蚀硅:烧蚀效率和激光诱导等离子体膨胀
机译:激光烧蚀或高压放电等离子体CVD或激光烧蚀结合高压放电等离子体CVD的薄膜形成方法
机译:激光烧蚀或高压放电等离子CVD或高压烧蚀等离子体CVD结合激光烧蚀的薄膜形成方法
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