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AlGaN/GaN肖特基结参数分析与电流运输机理研究

         

摘要

通过对AlGaN/GaN HEMT器件肖特基栅电流输运机理的研究,在变温下采用I-V法对AlGaN/GaN上的Ni/Au肖特基势垒高度和理想因子进行了计算.通过对不同电流机理的分立研究,得到了更为准确的势垒高度值鯾.通过分析温度在300-550K之间肖特基反向泄漏电流的特性,得出结论:AlGaN材料的表面漏电不是HEMT器件反向泄漏电流的主要来源.

著录项

  • 来源
    《物理学报》 |2008年第5期|3171-3175|共5页
  • 作者单位

    西安电子科技大学,宽禁带半导体技术重点实验室,西安,710071;

    西安电子科技大学,宽禁带半导体技术重点实验室,西安,710071;

    西安电子科技大学,宽禁带半导体技术重点实验室,西安,710071;

    西安电子科技大学,宽禁带半导体技术重点实验室,西安,710071;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 物理学;
  • 关键词

    AlGaN/GaN异质结; 肖特基结; 理想因;

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