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赵鸿麟;
天津大学电子工程系;
MOS晶体管; VT成品率; 沟道长度;
机译:具有高分辨率电极的亚2微米沟道长度MoS2晶体管的激光直接写入和喷墨打印
机译:沟道长度低于10 nm的MoS2场效应晶体管
机译:隧道DCIV提取超薄栅氧化物MOS晶体管的沟道和扩展区中的杂质-杂质浓度,氧化物厚度和长度
机译:LER / LWR诱导EΔDCN沟道MOS晶体管V_T变异性的研究
机译:从界面陷阱处复合电流的线形中提取亚微米MOS晶体管中的沟道杂质浓度分布
机译:通过利用电荷俘获动力学模拟n和p沟道MoS2晶体管中的突触响应
机译:MOS2场效应晶体管,具有子10 nm沟道长度
机译:半导体碳纳米管场效应晶体管中的电输运和沟道长度调制。
机译:补偿电路,其中任何两个子像素的驱动晶体管的沟道宽度与长度之比之间的大小关系与对应于两个子像素的两个感测晶体管的沟道宽度与长度之比之间的大小关系相同,制造方法,像素电路,补偿装置及显示装置
机译:带有沟道保护区的窄沟道长度MOS场效应晶体管,用于减小源到衬底的电容
机译:既用作N沟道MOS晶体管又用作P沟道MOS晶体管的MOS功率器件
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