首页> 中文期刊>兵工学报 >808nm垂直腔面发射激光器湿法氧化工艺的研究

808nm垂直腔面发射激光器湿法氧化工艺的研究

     

摘要

为提高808nm垂直腔面发射半导体激光器(VCSEL)的输出功率与电光转换效率,对其湿法氧化工艺进行了实验研究.采用扫描电镜(SEM)的微区分析功能,对样品氧化层按不同的氧化深度进行微区分析.微区分析结果表明:适当降低氧化温度,延长氧化时间,可减小氧化限制孔径的控制误差,提高氧化工艺的准确性;氧化后对样品进行高温加热处理,可减少氧化层中的As含量,改善氧化层的质量,提高氧化工艺的热稳定性.

著录项

  • 来源
    《兵工学报》|2010年第2期|209-213|共5页
  • 作者单位

    长春理工大学,高功率半导体激光国家重点实验室,吉林,长春,130022;

    装甲兵技术学院,电子工程系,吉林,长春,130117;

    长春理工大学,高功率半导体激光国家重点实验室,吉林,长春,130022;

    装甲兵技术学院,电子工程系,吉林,长春,130117;

    长春理工大学,高功率半导体激光国家重点实验室,吉林,长春,130022;

    长春理工大学,高功率半导体激光国家重点实验室,吉林,长春,130022;

    长春理工大学,高功率半导体激光国家重点实验室,吉林,长春,130022;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 半导体激光器;
  • 关键词

    半导体技术; 垂直腔面发射激光器; 湿法氧化; 氧化限制孔径;

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号