化学气相沉积TiN薄膜及其耐磨性能

摘要

采用化学气相沉积的方法制备TiN薄膜,以提高K3镍基高温合金的耐磨性能.以TiCl4和NH3为反应气体,用化学气相沉积法(CVD)在K3镍基高温合金基体上制备了一系列不同温度和沉积时间的TiN薄膜.结果表明,与基体相比,沉积TiN薄膜的样品耐磨性能有显著提高.当沉积温度不变时,TiN薄膜耐磨性能随沉积时间的延长先提高后降低;当沉积时间不变时,薄膜的耐磨性能随沉积温度的升高而提高.化学气相沉积法制备TiN薄膜的最佳工艺条件为600℃/60 min.