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由铱配合物构成的化学气相沉积用原料及使用该化学气相沉积用原料的化学气相沉积法

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本发明涉及用于通过化学气相沉积法制造铱薄膜或者铱化合物薄膜的化学气相沉积用原料，该化学气相沉积用原料由在铱上配位有环丙烯基或其衍生物以及羰基配体的铱配合物构成。本发明中应用的铱配合物即使在应用氢等还原性气体的情况下也可以制造铱薄膜。(式中，环丙烯基配体的取代基R1～R3各自独立地为氢、或者碳数1以上4以下的直链状或支链状的烷基。)

著录项

公开/公告号CN110431253A

专利类型发明专利
公开/公告日2019-11-08

原文格式PDF
申请/专利权人田中贵金属工业株式会社;
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申请/专利号CN201880019340.5
发明设计人原田了辅;重富利幸;铃木和治;
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申请日2018-03-05
分类号C23C16/16(20060101);C07F15/00(20060101);C23C16/18(20060101);H01L21/285(20060101);
代理机构11112 北京天昊联合知识产权代理有限公司;
代理人常海涛;孙微
地址日本东京
入库时间 2024-02-19 15:30:30

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2019-12-03

实质审查的生效 IPC(主分类):C23C16/16 申请日:20180305

实质审查的生效
2019-11-08

公开

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