Stanford University.;
机译:高温电容器应用溅射钽钛氧化物薄膜的结构和介电特性
机译:用于高k栅极电介质应用的Si上外延氧化镧薄膜:生长优化和缺陷钝化
机译:通过液体注入MOCVD在硅衬底上生长Ti-ta-o薄膜并对其进行表征,用于改性钛和钽前体的高k应用
机译:基于高k电介质的非晶硅薄膜晶体管,用于医学成像。
机译:研究用于高能量密度电容器的氧化锆,五氧化钽和氧化物-聚合物层压膜中的结构-介电特性关系。
机译:射频磁控溅射制备基于特定用途的氧化物基和金属介电薄膜材料
机译:用于未来CMOS技术的掺钽氧化物高k栅极介电膜