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表面改性的氧化钽纳米颗粒及其制备方法、利用该氧化钽纳米颗粒的X射线计算机断层摄影用造影剂及高介电薄膜

摘要

本发明涉及一种表面改性的氧化钽纳米颗粒及其制备方法、利用该氧化钽纳米颗粒的X射线计算机断层摄影用造影剂以及高介电薄膜。具体涉及表面改性的氧化钽纳米颗粒、包括(i)在包含表面活性剂的有机溶剂中添加包含水的水相,制备油包水微乳液的工序,(ii)向上述微乳液中导入钽前驱体的工序,(iii)在(ii)中获得的溶液中添加包含有机硅烷基团或膦基团的表面改性剂,使其进行反应的工序,(iv)从上述(iii)工序的反应物去除有机溶剂的工序,以及,(v)从在上述(iv)工序获得的混合物分离表面改性的氧化钽纳米颗粒的工序的表面改性的氧化钽纳米颗粒的制备方法、以及利用该氧化钽纳米颗粒的X射线计算机断层摄影用造影剂及高介电薄膜。

著录项

  • 公开/公告号CN102905696A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-01-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 首尔大学校产学协力团;

    申请/专利号CN201180010631.6

  • 发明设计人 玄泽焕;吴明焕;

    申请日2011-02-22

  • 分类号A61K9/16(20060101);A61K9/14(20060101);A61K49/00(20060101);

  • 代理机构北京友联知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人尚志峰;汪海屏

  • 地址 韩国首尔市冠岳区新林洞山56-1

  • 入库时间 2024-02-19 17:42:46

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-01-06

    专利权的视为放弃 IPC(主分类):A61K49/00 放弃生效日:20160106 申请日:20110222

    专利权的视为放弃

  • 2013-03-13

    实质审查的生效 IPC(主分类):A61K9/16 申请日:20110222

    实质审查的生效

  • 2013-01-30

    公开

    公开

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