Georgia Institute of Technology.;
机译:使用二氧化碳中的水微乳剂去除图案晶片中的Hf / co_2蚀刻后残留物
机译:二氧化碳中的水微乳液,用于去除图案化多孔低k电介质中的蚀刻后残留物
机译:通过使用表面活性剂来去除等离子蚀刻残留物的水基清洗液的最佳润湿行为
机译:基于残留物元素组成的集成电路的残留型去除模型选择后等离子体蚀刻/灰料清洁方法的选择
机译:二氧化碳在气体膨胀液体中的作用,用于去除光刻胶和蚀刻残留物
机译:由原料植物超临界提取的残留物制备的活性生物碳及其从气相中除去二氧化氮和硫化氢的应用
机译:用于22 nm互连的光刻胶去除和蚀刻后残留物去除的挑战和新颖方法