University of Florida.;
机译:山梨酸钾作为铜化学机械平面化浆料中的抑制剂。第二部分:山梨酸酯对化学机械平面化性能的影响
机译:铜的电化学机械抛光和玻璃的化学机械抛光
机译:结合了化学和机械作用对铜化学机械抛光材料去除的动力学模型
机译:电化学机械抛光中机械抛光对铜的影响
机译:胶态二氧化硅化学机械抛光浆料中的剪切增稠。
机译:化学机械抛光实施后化学机械抛光对钛植入物表面性质的影响FT-IR和钛植入物表面的润湿性数据
机译:铜化学机械抛光过程中化学溶解与机械磨损之间的协同作用