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第一章绪论
第二章Monte Carlo模型
第三章电子穿越多层掩模的Monte Carlo模拟
第四章抗蚀剂中沉积能量的分布及邻近效应的模拟
第五章邻近效应的修正
第六章总结和展望
参考文献
攻读硕士学位期间发表和待发表的论文
致谢
肖沛;
中国科学技术大学;
电子束光刻; 掩模; 介电函数模型; 散射; 抗蚀剂; 衬底; 邻近效应;
机译:使用Monte Carlo模拟使用Monte Carlo模拟的飞行时间总中子散射仪设计的优化设计,用于施用无序大分子
机译:基于Monte Carlo模拟的低能电子束光刻模板掩模结构因子优化。
机译:高度散射介质的漫射背向散射Mueller矩阵的Monte Carlo模拟
机译:结合3D PET的单点散射仿真和Monte Carlo模拟相结合的散射校正
机译:使用Monte Carlo模拟优化光声成像的光传递
机译:模型参数对结肠组织反向散射Mueller矩阵图像的Monte Carlo模拟的影响
机译:ashkin-Teller模型的蠕虫型monte Carlo模拟 三角形格子
机译:大规模集合中三角形随机曲面的monte Carlo模拟
机译:使用基于时间和成本数据的MONTE CARLO模拟软件进行良好的计划。
机译:使用Monte Carlo模拟的EPMA分析方法
机译:半导体器件的Monte Carlo模拟模式为null
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