低能电子束光刻的Monte Carlo模拟

肖沛; 林季资

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低能电子束光刻的Monte Carlo模拟

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利用Mott截面和介电函数模型,借助Monte Carlo方法模拟了电子在光刻胶PMMA和衬底中的弹性散射和非弹性散射.通过统计电子的能量沉积分布,发现低能电子的大部分能量沉积在光刻胶中而非衬底,所以在电子束光刻中有着更高的效率.并且还得到了在不同的入射电子能量下,光刻胶完全曝光所对应的的最佳厚度.

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来源
《佳木斯大学学报：自然科学版》 |2008年第4期|476-478|共3页
作者
肖沛; 林季资;
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作者单位

江苏科技大学张家港校区基础部;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类光刻、掩膜;物理模拟方法、物理仿真;
关键词
电子束光刻; 能量沉积; Monte; Carlo模拟;

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