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致谢
第一章绪言
1.1薄膜材料研究的意义
1.2薄膜材料研究的国内外现状
1.2.1研究背景
1.2.2研究现状
1.3本文的研究内容
第二章薄膜材料微观生长的研究方法
2.1计算物理学概述
2.2计算机模拟方法的分类描述
2.2.1蒙特卡罗(Monte Carlo simulation)方法
2.2.2分子动力学(Molecular dynamics simulation,MD)方法
2.3虚拟现实技术与图形学
2.4计算机图形学在薄膜仿真中的应用
2.4.1蒙特卡罗波茨晶格的图像表示
2.4.2离散点图
2.5本章小节
第三章磁控溅射铜薄膜生长的二维模拟
3.1磁控溅射铜薄膜的制备
3.1.1工件的预处理
3.1.2磁控溅射镀膜工艺
3.2磁控溅射铜薄膜的表征
3.3铜薄膜生长的蒙特卡罗模拟
3.3.1系统模型的建立
3.3.2能量算符
3.3.3蒙特卡罗算法
3.4结果与讨论
3.4.1铜薄膜的表征及模拟结果
3.4.2铜薄膜生长过程中的晶粒变化情况
3.5结论
第四章磁控溅射铜薄膜生长的三维模拟
4.1模型算法
4.1.1系统模型
4.1.2模型算法
4.2结果与讨论
4.2.1铜膜的三维形貌
4.2.2基底活性分布对薄膜生长的影响
4.2.3温度对薄膜生长的影响
4.3结论
第五章总结与展望
5.1总结
5.2展望
参考文献
攻读硕士学位期间发表的论文