声明
第一章 绪论
1.1 引言
1.2 透明导电氧化物薄膜的概述
1.2.1 透明导电氧化物薄膜的发展历史
1.2.2 透明导电氧化物薄膜的分类
1.3 透明导电氧化物薄膜的制备方法
1.3.1 磁控溅射法
1.3.2 化学气相沉积法
1.3.3 脉冲激光沉积法
1.3.4 喷涂热分解法
1.3.5 溶胶-凝胶法
1.4 透明导电氧化物双层或多层复合薄膜的研究进展
1.4.1 金属/TCO薄膜
1.4.2 金属氧化物/TCO薄膜
1.4.3 TCO/金属/TCO薄膜
1.5 透明导电氧化物薄膜后续处理的研究进展
1.5.1 炉内退火的研究进展
1.5.2 激光退火的研究进展
1.6 本课题的研究意义与内容
1.6.1课题研究意义
1.6.2主要研究内容
第二章 FTO薄膜表面激光刻蚀
2.1引言
2.2 实验部分
2.2.1 实验材料
2.2.2样品的制备
2.2.3 样品的表征与测试
2.3 结果与讨论
2.3.1 离焦量对FTO薄膜表面凹槽形貌的影响
2.3.2 离焦量对FTO薄膜光电性能的影响
2.3.3 能量密度对FTO薄膜表面凹槽形貌的影响
2.3.4 能量密度对FTO薄膜光电性能的影响
2.3.5 扫描速度对FTO薄膜表面凹槽形貌的影响
2.3.6 扫描速度对FTO薄膜光电性能的影响
2.4 本章小结
第三章 Ag/FTO薄膜的制备与炉内退火处理
3.1引言
3.2 实验部分
3.2.1 实验材料
3.2.2 样品的制备
3.2.3 样品的表征与测试
3.3 结果与讨论
3.3.1 Ag层厚度对Ag/FTO表面形貌的影响
3.3.2 Ag层厚度对Ag/FTO晶体结构的影响
3.3.3 Ag层厚度对Ag/FTO光电性能的影响
3.3.4 退火温度对Ag/FTO表面形貌的影响
3.3.5 退火温度对Ag/FTO晶体结构的影响
3.3.6 退火温度对Ag/FTO光电性能的影响
3.3.7 退火时间对Ag/FTO表面形貌的影响
3.3.8 退火时间对Ag/FTO晶体结构的影响
3.3.9 退火时间对Ag/FTO光电性能的影响
3.4 本章小结
第四章 AZO/Ag/FTO薄膜的制备与激光退火处理
4.1引言
4.2 实验部分
4.2.1 实验材料
4.2.2 样品的制备
4.2.3 样品的表征与测试
4.3 结果与讨论
4.3.1 AZO层厚度对AZO/Ag/FTO表面形貌的影响
4.3.2 AZO层厚度对AZO/Ag/FTO光电性能的影响
4.3.3 光斑重叠率对AZO/Ag/FTO表面形貌的影响
4.3.4 光斑重叠率对AZO/Ag/FTO晶体结构的影响
4.3.5 光斑重叠率对AZO/Ag/FTO光电性能的影响
4.3.6 线重叠率对AZO/Ag/FTO表面形貌的影响
4.3.7 线重叠率对AZO/Ag/FTO晶体结构的影响
4.3.8 线重叠率对AZO/Ag/FTO光电性能的影响
4.4 本章小结
第五章 总结与展望
5.1 工作总结
5.2 工作创新点
5.3 工作展望
参考文献
致谢
硕士期间发表的学术论文和专利
硕士期间参与的科研项目
江苏大学;
