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目 录
Contents
第 1 章 绪 论
1.1 课题背景及研究的目的和意义
1.2 光学元件的等离子体化学加工技术研究概况
1.2.1 等离子体辅助化学刻蚀
1.2.2 等离子体射流加工
1.2.3 等离子体化学蒸发加工
1.2.4 反应原子等离子体加工技术
1.2.5 大气等离子体加工技术
1.3 光学加工用等离子体特性及加工表面形成研究现状
1.3.1 光学加工用等离子体温度与流场特性的研究现状
1.3.2 等离子体加工表面形成的研究现状
1.4 等离子体加工光学元件需要解决的问题
1.5 本文的主要研究内容
第 2 章 等离子体加工系统搭建及发生装置设计
2.1 引言
2.2 ICP加工装备的设计及搭建
2.2.1 ICP加工系统的基本构成
2.2.2 等离子体加工装备的搭建
2.3 ICP发生器内部温度与流场分布的数值仿真研究
2.3.1 ICP能量耦合机理
2.3.2 发生器内部温度和流场分布的数值仿真模型
2.3.3 发生器内部等离子体温度与流场分布特征分析
2.4 等离子体组分计算与ICP发射光谱分析
2.4.1 等离子体组分的数值计算
2.4.2 ICP发射光谱特征研究
2.5 ICP发生器损坏分析及可拆卸式发生器设计
2.5.1 炬管损坏原因分析
2.5.2 炬管损坏的流场因素
2.5.3 可拆卸式炬管的设计与装配
