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鲍海飞; 熊斌; 戈肖鸿; 王渭源; 王跃林;
中国仪器仪表学会;
中国电子学会;
中国航空学会;
纳米摩擦; 钝化膜; 深反应离子刻蚀;
机译:工业电感耦合等离子体沉积工具中用于硅晶片太阳能电池表面钝化的低温氢等离子体刻蚀工艺的研究
机译:晶体硅在远端低频感应耦合等离子体中沉积的本征a-Si:H膜对硅的表面钝化
机译:CoFeSiB磁性膜的感应耦合等离子体反应性离子刻蚀对磁性随机存取存储器的刻蚀特性
机译:电感耦合等离子体反应离子刻蚀(ICP-RIE)对补偿结构辅助凸角和凹角结构刻蚀的研究
机译:末端感应电感耦合等离子体原子发射光谱仪(ICP-AES)和直接样品插入电感耦合等离子体原子发射光谱仪(DSI-ICP-AES)的研究。
机译:使用电感耦合等离子体质谱法(neb-ICP-MSLA-ICP-MS)和基于流式细胞仪的方法对人类细胞系中的Al2O3纳米颗粒进行定量
机译:感应耦合CF4 / Ar等离子体对TiN薄膜进行干法刻蚀
机译:电感耦合等离子体(ICp)干蚀刻中三氯化硼/氯气体分子外延生长p型氮化铝镓的刻蚀特性及表面分析
机译:在感应耦合等离子体(ICP)处理室中使用低偏置电压在基板附近产生补充等离子体密度
机译:镀膜设备具有反应性气体进料和感应耦合等离子体(ICP)源,还配有空心阴极等离子体源
机译:等离子体刻蚀的铝膜的等离子体钝化
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