金刚石n型和p型掺杂研究

摘要

本文主要围绕n型和p型金刚石薄膜掺杂的相关问题进行了研究.一方面,从理论上利用分子动力学的计算机模拟方法对金刚石薄膜掺杂的一些微观过程进行探讨;另一方面,在实验上采用共掺杂方法,利用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)技术在金刚石中掺入不同的杂质对(硼硫杂质对),制备低电阻率的n型掺杂金刚石薄膜,系统地研究掺杂金刚石薄膜的电学性能和结构特征,探讨了金刚石薄膜的掺杂机理.利用热丝化学气相沉积(HFCVD)技术制备了硼掺杂的p型纳米金刚石涂层电极,研究了掺硼纳米金刚石涂层电极的结构和电化学性能及在污水处理中的应用.