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目录
第一章 绪论
1.1. 光刻工艺的基本原理
1.2. 浸润式光刻机的简介
1.3. 浸润式光刻机引入的缺陷种类及研究现状
1.4. 本文研究的内容
第二章 浸润光刻机的主要工艺缺陷成因及类型
2.1. 气泡缺陷的光学原理
2.2. 在光阻层上发现的气泡缺陷
2.3. 气泡的源头
2.4. 由透明颗粒物或起泡而产生的缺陷
2.5. 由非透明颗粒物产生的缺陷
2.6. 水渍残留缺陷
2.7. 本章小结
第三章 浸润式光刻机工艺缺陷的优化
3.1. 减少气泡缺陷的方法
3.2. 减少水渍残留缺陷的方法
3.3. 颗粒物数量的降低
3.4. 低厚度光阻薄膜或防水层薄膜中的微小空洞
3.5. 定期检测项目
3.6. 缺陷异常时的处理
3.7. 本章小结
第四章 优化后的效果
4.1. 低渗透率材料的优化结果
4.2. 接触角的优化结果
4.3. 冲洗工艺的优化效果
4.4. 边缘颗粒物的优化成效
4.5. 综合优化后的实验结果
4.6. 本章小结
第五章 浸润式工艺缺陷数量的优化总结与后续工作
5.1. 浸润式工艺缺陷数量的优化总结
5.2. 后续工作的安排
参 考 文 献
致谢
攻读硕士学位期间已发表或录用的论文
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