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苗瑞霞;
西安电子科技大学;
位错延伸; 转化机理; 外延生长; 缺陷无损表征; 半导体材料; 碳化硅;
机译:工艺参数对4°离轴基片上基于氯化物的CVD生长的厚4H-SiC外延层中位错密度的影响
机译:高质量的4H-SiC外延生长且基极平面位错密度极低的演示
机译:液相外延生长的6H-SiC和4H-SiC结构中的微管和位错密度降低
机译:高生长速率生长的4H-SiC外延层中的低陷阱浓度和低基面位错密度
机译:用于稳定双极二极管的4H-碳化硅的低基面位错密度外延层的生长。
机译:接近无应变的GaN兼容缓冲层上GaN外延层中的超低穿线位错密度及其在异质外延LED中的应用
机译:具有低螺纹位错密度的葛应菌松弛缓冲液的外延生长
机译:重组过程控制低Z sub 1/2浓度的n( - )4H-siC外延层中的载流子寿命
机译:低穿线位错密度可缓解不匹配的外延层,而无需高温生长
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