声明
摘要
1.1 课题研究背景
1.2 磁集聚结构与磁阻传感器的研究发展现状
1.3 薄膜技术的发展动态
1.4 论文的主要工作
2.磁集聚结构与磁阻单元的设计及仿真
2.1 磁阻单元总体结构
2.1.1 薄膜磁阻结构设计原理
2.1.2 结构设计仿真分析
2.2 磁集聚结构
2.2.1 外置磁集聚结构特性理论分析
2.2.2 磁通聚集放大因子分析
2.2.3 磁集聚结构仿真分析
2.3 小结
3.材料选择与薄膜表征技术
3.1 材料选择
3.1.1 磁集聚结构材料
3.1.2 磁阻薄膜材料
3.1.3 偏置电极材料
3.2 磁性薄膜性能表征测试技术
3.2.1 四探针测试仪
3.2.2 台阶仪
3.2.3 X射线衍射(XRD)
3.2.4 原子力显微镜(AFM)
3.2.5 磁屏蔽筒
3.3 小结
4.薄膜设计与制备
4.1 制备尺寸的设计
4.1.1 磁阻结构尺寸设计
4.1.2 磁集聚结构尺寸设计
4.2 薄膜制备技术
4.3 制备工艺流程
4.3.1 磁阻单元制备工艺流程
4.3.2 磁集聚结构制备
4.4 小结
5 磁集聚结构与磁阻结构测试
5.1 工艺条件对磁性薄膜的影响
5.1.1 溅射气压对薄膜磁阻性能影响
5.1.2 种子层对磁阻单元薄膜性能影响
5.2 薄膜厚度对磁阻性能影响
5.3 偏置电极性能测试
5.4 磁组结构测试
5.4.1 薄膜磁阻厚度测试
5.4.2 磁阻灵敏度测试
5.5 含磁集聚结构磁阻单元性能测试
5.6 小结
6.论文总结与展望
6.1 全文总结
6.2 下一步工作展望
参考文献
攻读硕士学位期间所取得的研究成果
致谢