多层介质膜光栅掩膜形貌特性的研究

摘要

该文围绕着多层介质膜光栅的制作展开了理论和实验的研究,主要内容包括以下几个方面:首先介绍了研究惯性约束核聚变(ICF)的意义和国际上脉冲压缩光栅(PCG)的研究进展.对光栅电磁场的严格矢量理论给出了详细的介绍,并且对其中较为常用的两种方法做出对比,最终选择了C方法作为该课题的数值计算的理论基础.全息干涉是目前制作ICF脉宽压缩光栅的唯一有效方法.因此,文章对多层介质膜光栅的设计及运用全息法制作多层介质膜光栅给出了详细的介绍,并对其中的难点做出了分析.最后论文尝试性地提出了多层介质膜脉冲压缩光栅的检测原理及方法,在基于C方法数值拟合与计算的理论研究及分析的基础上,探索性地提出了通过测量脉冲压缩光栅某级衍射光的光谱分布来判断光栅掩膜形貌的研究思路,以期达到检测多层介质膜脉冲压缩光栅质量的目的;并根据这一研究思路对以多层介质膜为基底的光栅掩膜进行了实验测量理论对比分析,并分析了测量结果对掩膜形貌检测的指导作用,为深入进行多层介质膜脉冲压缩光栅掩膜的质量评价及检测的研究工作奠定了基础.

目录

文摘

英文文摘

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第一章引言

1.1研究惯性约束核聚变的意义

1.2国际上脉冲压缩光栅的研究进展

1.3论文研究的目的

第二章理论分析

2.1光栅理论的发展历史与现状

2.2两种常用严格矢量理论的比较

2.3 C方法的理论分析

2.4基于C方法的多层介质膜光栅衍射效率计算结果的验证

第三章多层介质膜光栅的设计与制作

3.1多层介质膜光栅的制作流程

3.2多层介质膜光栅的设计

3.3多层介质膜光栅的设计与制作过程中的难点

第四章多层介质膜光栅的检测

4.1检测判据的选取和测量条件的分析

4.2检测装置的设计与介绍及实验数据的处理方法

4.3实验结果及分析

4.4光栅槽形无损检测的意义及展望

结 论

参考文献

攻读学位期间发表的论文

致谢