一种高损伤阈值的多层介质膜矩形衍射光栅制备方法

摘要

本发明涉及一种高损伤阈值的多层介质膜矩形衍射光栅制备方法，包括以下步骤：镀制多层介质膜；在Si片上刻蚀制备出与目标矩形光栅结构相反的矩形Si光栅母版；利用软材料模板转移矩形Si光栅母版的图案；使用紫外纳米软压印技术，通过软材料模板在多层介质膜上形成与目标矩形光栅结构相反的光刻胶光栅；使用原子层沉积工艺在所述光刻胶光栅上沉积构成光栅的薄膜；去除多余薄膜和光刻胶，形成需要的矩形光栅结构。与现有技术相比，本发明克服了传统光栅刻蚀工艺造成的梯形光栅结构，解决了梯形光栅结构偏差引起的光栅内电场增强效应加剧，避免了因刻蚀过程中离子束轰击在介质光栅侧壁产生吸收缺陷，提高介质多层膜衍射光栅的激光损伤阈值。