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目录
1 绪论
1.1 课题的来源意义
1.2 国内外研究现状
1.3 研究目标及研究方法
1.4 研究内容及关键参数
2 椭偏仪研究原子层沉积背景及常用模型介绍
2.1 原子层沉积薄膜的制备
2.2 原子层沉积薄膜的实验表征
2.3 椭偏仪测量原理及数据采集
2.4 椭偏仪数据分析
2.5 椭偏仪数据拟合常用模型
3 金属氧化物及有机薄膜椭偏仪研究
3.1 原子层沉积氧化铝薄膜的椭偏模型研究
3.2 自组装单分子膜SAMs的椭偏模型研究
3.3 原子层沉积氧化钴薄膜的椭偏模型研究
3.4 本章小节
4 原子层沉积钯薄膜的椭偏模型研究
4.1 原子层沉积钯薄膜的制备及电阻率测试
4.2 GO-Pd模型研究ALD Pd (Si基底)原位生长
4.3 MG-EMA/GO模型研究ALD Pd (Si基底)离线生长
4.4 MG-EMA/GO模型研究ALD Pd (SAMs基底)离线生长
4.5 本章小结
5 全文总结
致谢
参考文献
攻读硕士期间发表论文