文摘
英文文摘
声明
第一章导论
1.1真空微纳电子技术的发展及应用
1.2金刚石及非晶碳基冷阴极薄膜的场致电子发射研究背景
1.3本论文的研究目的和内容安排
参考文献
第二章实验技术原理及校正
2.1磁过滤真空弧等离子体沉积技术
2.2宏观场致电子发射测试方法
2.3扫描探针显微镜与场致电子发射测试
参考文献
第三章氢处理对非晶碳薄膜场致电子发射特性的影响
3.1样品制备
3.2氢处理对不同厚度的非晶碳薄膜结构的影响
3.3非晶碳薄膜的场致电子发射特性测试
3.4氢处理后非晶碳薄膜微区电学特性表征
3.5讨论分析
3.6小结
参考文献
第四章类金刚石薄膜的扫描隧道显微镜和扫描隧道谱研究
4.1样品制备
4.2类金刚石薄膜的扫描隧道显微镜研究
4.3类金刚石薄膜的微区场致电子发射研究
4.4场致电子发射诱导下类金刚石薄膜微分隧道谱的变化
4.5类金刚石薄膜微区相变的机理探讨
4.6小结
参考文献
第五章嵌入纳米金刚石团簇的类金刚石薄膜的场致电子发射特性研究
5.1纳米金刚石团簇的电泳沉积
5.2类金刚石薄膜的沉积和嵌入纳米金刚石团簇的类金刚石薄膜的表征
5.3嵌入纳米金刚石团簇的类金刚石薄膜的场致电子发射特性测试
5.4嵌入纳米金刚石团簇的类金刚石薄膜微区场致电子发射研究
5.5小结
参考文献
第六章薄膜型阴极结构优化的讨论
第七章结论
附录
致谢