Miasole San Jose, CA 95131, U.S.A.;
机译:后处理对使用四元单靶的射频磁控溅射溅射Cu(In,Ga)Se_2薄膜的性能的影响
机译:从单个靶溅射出的Cu(In,Ga)Se_2薄膜和器件,无需额外的硒化
机译:黄铜矿Cu(In,Ga)Se_2四元合金和In靶溅射制备Cu(In,Ga)Se_2薄膜
机译:通过溅射制造的柔性基板上的大面积Cu(In,Ga)SE_2薄膜和装置
机译:通过轧制溅射沉积工艺沉积在柔性玻璃基板上的氧化铟锌,氧化铟锡和钼薄膜的表征
机译:通过共溅射和溅射气体聚集获得的CO-Cu薄膜的磁传输性能
机译:通过溅射和共蒸发沉积的Cu(In,Ga)Se_2薄膜的强度,刚度和微观结构