Department of Electronics and Information Science, Kyoto Institute of Technology, Matsugasaki, Sakyo-ku, Kyoto, 606-8585, Japan;
机译:六甲基二硅烷[(CH_3)_6Si_2]的大气热壁CVD在Si衬底上外延生长3C-SiC
机译:使用CVD生长的3C-SiC种子层通过VLS传输在硅衬底上外延生长3C-SiC
机译:2英寸AlGaN / GaN HEMT结构的均匀热壁MOCVD外延生长
机译:大气热墙CVD在Si基板上外延生长2英寸3C-SiC
机译:III-V光电探测器和光发射器的MOCVD生长,用于在SI基板上集成光电器件
机译:Si(111)衬底和3C-SiC(111)外延层之间的错位界面的异常性质
机译:使用二氯硅烷的高生长速率4H-siC外延生长 热壁CVD反应器