【24h】

ELABORATION OF h-BN SHEATHED β-SiC NANOCABLES

机译:h-BN包覆的β-SiC纳米粒子的制备

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摘要

h-BN sheathed β-SiC nanocables were synthesized under argon at 1200℃ by the direct thermal treatment of a silicon powder mixed with turbostratic boron nitride. The structure and the chemical composition of these nanocables have been investigated by HRTEM, EDX and EELS. They have a diameter ranging from 10 to 80 nm. The core of these nanocomposites is composed of pure cubic silicon carbide and the outer layers have been shown to be hexagonal boron nitride planes, set in a parallel direction to the nanocables axis.
机译:通过在硅中掺入涡轮层氮化硼的直接热处理,在1200℃氩气下合成了h-BN包覆的β-SiC纳米电缆。这些纳米电缆的结构和化学组成已通过HRTEM,EDX和EELS进行了研究。它们的直径为10至80 nm。这些纳米复合材料的核心由纯立方碳化硅组成,外层已显示为六边形氮化硼平面,设置在与纳米电缆轴平行的方向上。

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