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【24h】

Elaboration of h-bn sheathed beta-SiC nanocables

机译:阐述H-BN护套的β-SiC纳米

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摘要

h-BN sheathed 13-SiC nanocables were synthesized under argon at 1200 deg C by the direct thermal treatment of a silicon powder mixed with turbostratic boron nitride.The structure and the chemical composition of these nanocables have been investigated by HRTEM,EDX and EELS.They have a diameter ranging from 10 to 80 nm.The core of these nanocomposites is composed of pure cubic silicon carbide and the outer layers have been shown to be hexagonal boron nitride planes,set in a parallel direction to the nanocables axis.
机译:通过与涡轮氮化硼混合的硅粉末的直接热处理,在1200℃下在氩气下合成H-BN护套的13-SiC纳米烃。通过HRTEM,EDX和EELS研究了这些纳米中的结构和化学组成。它们的直径范围为10至80nm。这些纳米复合材料的核心由纯的立方碳化硅组成,并且外层已被示出为六边形氮化硼平面,将平行方向设置在纳米皮带轴上。

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