Laboratoire de Physique et Applications des Semiconducteurs, CNRS, Strasbourg, France;
机译:溅射金属前驱体结合快速热退火硫化工艺制备Cu2FeSnS4薄膜的合成,结构,光学和电学性质
机译:含水滑石的Cu-Zn-Al前体的热分解:热方法与原位DRIFT研究相结合
机译:与快速热处理器中的硅化钛膜瞬态热退火有关的可制造性问题
机译:快速热退火结合瞬态离子漂移的Si中Cu痕量的分析
机译:在快速辅助快速热退火过程中,硼的活化和扩散会改变硅的初始工艺条件。
机译:使用热脱附DART-MS配置快速分析痕量药物和代谢物
机译:纳米晶Fe73.5cu1nb3sixb(22.5-x)铁磁体 - 磁,机械和热分析之间的最佳和快速退火
机译:通过组合分子束 - 质谱分析快速反应中的瞬变。