Photonics Research Institute, AIST, AIST Tsukuba Central2, Tsukuba 305-8568 Japan;
机译:高能同步辐射X射线多层菲涅耳波带片的制造新方法
机译:通过直流溅射沉积开发用于高能同步辐射X射线的多层菲涅耳波带片
机译:X射线硬区中最外区宽度为35 nm的菲涅耳区带板的制备和性能测试
机译:同心多层菲涅耳区板的计算机控制制造用于同步辐射硬X射线
机译:具有高纵横比的硬X射线区板的模拟与制造
机译:双倍菲涅耳波带片用于高分辨率硬X射线全场透射显微镜
机译:硬X射线区域35nm最外区域宽度的菲涅耳区板的制造和性能测试
机译:硬X射线菲涅耳波带片的材料优化。