Department of Electrical and Electronic Engineering, Yamaguchi University, 2-16-1 Tokiwadai, Ube, Yamaguchi 755-8611, Japan;
机译:直接在反应离子刻蚀处理过的GaN表面上进行AlGaN的金属有机气相外延生长,以制备具有高电子迁移率(〜1500cm〜2V〜(-1)s〜(-1)的AlGaN / GaN异质结构:反应离子刻蚀的影响-损坏的层去除
机译:AlGaN / GaN /α-Al <下标> 2 下标> O <下标> 3 下标>异质结构的脱位结构含有碳和铁的GaN层
机译:用AlGaN中间夹层对双异质结构GaN / AlGaN外延层的电性能的表征
机译:GaN和Algan外延层的Biexcitons
机译:GaN-SiC界面处具有GaN微坑的AlGaN / GaN HEMT中的散热分析
机译:使用AlGaN / GaN / AlGaN量子阱电子阻挡层的AlGaN / GaN HEMT中的高击穿电压
机译:使用AlGaN / GaN / AlGaN量子阱电子阻挡层的AlGaN / GaN HEMT中的高击穿电压
机译:alGaN和alGaN / GaN外延层中的供体,受体和陷阱