Wuhan National Laboratory for Optoelectronics, College of Optoelectronic Science and Engineering, Huazhong University of Science and Technology, Wuhan 430074, China;
Wuhan National Laboratory for Optoelectronics, College of Optoelectronic Science and Engi;
a-plane GaN; MOCVD; XRD; PL; Raman;
机译:使用GaN,AlGaN和AlN缓冲层在r面蓝宝石衬底上进行a面GaN膜的MOCVD生长的比较研究
机译:使用GaN,AlGaN和AlN缓冲层在r平面蓝宝石衬底上MOCVD生长a平面GaN膜的比较研究
机译:低温GaN缓冲层的Ⅴ/Ⅲ比对MOCVD在r面蓝宝石衬底上生长的a-GaN膜的结构和光学性能的影响
机译:AlaN组合物在Algan缓冲层上通过MOCVD在r平面蓝宝石衬底上生长的平面Ganfilms的影响
机译:氮化镓/蓝宝石界面和蓝宝石衬底上缓冲层的TEM表征通过MOCVD。
机译:HVPE在r面蓝宝石上生长的a面GaN模板中深陷阱能级的电子状态
机译:(1 01 2)r平面蓝宝石衬底上非极性(1 12 0)a平面GaN的MOCVD生长和光学性质
机译:在HpVE生长的模板和自支撑GaN衬底上的N型GaN层的mOCVD生长和蚀刻