Synopsys Inc. 700 E Middlefield Road, Mountain View, CA 94043 USA;
SiVL; metrology automation; mask qualification; CD; MEEf;
机译:掩模对准仪光刻仿真-从光刻仿真到工艺验证
机译:使用高分辨率功能对邻近光刻掩模中的角进行统一的基于规则的校正
机译:极端紫外光刻中考虑掩模误差过程敏感性的掩模临界尺寸规格
机译:65NM基于仿真光刻验证的关键特征的65nm掩模CD资格
机译:使用有限差分时域仿真研究块掩模光刻技术的变化。
机译:基于双算子的模式转移路径规划和数字掩模投影光刻的双群蚁群算法
机译:X射线光刻的验证和移动掩模深X射线光刻的开发仿真系统
机译:Ionenstrahllithographie:Entwicklung Eines 1:1 proximity projektionsverfahrens auf der Basis von Channeling-masken(离子束光刻:开发基于通道掩模的1:1接近投影方法)