STMicroelectronics Crolles, 850 rue Jean Monnet, 38926 Crolles Cedex, France;
DNP Photomask Europe, Via C. Olivetti, 2/A, 1-20864 Agrate Brianza, Italy;
KLA Tencor - RAPID Division, One Technology Way, Milpitas, CA 95035;
KLA Tencor - RAPID Division, One Technology Way, Milpitas, CA 95035;
STMicroelectronics Crolles, 850 rue Jean Monnet, 38926 Crolles Cedex, France;
STMicroelectronics Crolles, 850 rue Jean Monnet, 38926 Crolles Cedex, France;
STMicroelectronics Crolles, 850 rue Jean Monnet, 38926 Crolles Cedex, France;
DNP Photomask Europe, Via C. Olivetti, 2/A, 1-20864 Agrate Brianza, Italy;
PSM; mask aging; intrafield CD degradation; iCDU;
机译:相移掩膜偏振法:使用相移掩膜监测193 nm高数值孔径的偏振和浸没式光刻
机译:高级光学光刻中减毒相移掩模的三维掩模效应研究
机译:下一代光刻技术的先进相移掩模的掩模形貌效应的基础研究
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机译:用于相移掩模设计的广义逆光刻方法。
机译:夜班表现的改善可以通过改善昼夜节律的位置来进行:研究3.夜班7夜之后的昼夜节律中间有一个周末休息
机译:极端紫外线的减毒相移掩模:它们是否可以减轻三维掩模效果?
机译:具有内置相移掩模的多光束透镜天线的概念研究