Canon Inc., 23-10 Kiyohara-Kogyo-danchi, Utsunomiya-shi, Tochigi-ken, 321-3298, Japan;
immersion lithography; high-index fluid; high-index lens material; thermal aberration;
机译:用193nm浸没式光刻成像干涉光刻和偶极子照明对45nm半节距节点进行仿真
机译:用193nm浸没式光刻成像干涉光刻和偶极子照明对45nm半节距节点进行仿真
机译:ArF水浸式光刻技术的后续产品:EUV光刻技术,多电子束无掩模光刻技术还是纳米压印技术?
机译:ARF高索引浸入光刻的37-NM半间距的可行性
机译:用于浸没式光刻的水性和有机液体的折射率和吸收率。
机译:溶剂浸渍压印光刻:高性能半自动程序
机译:高指数浸入式液体可实现32纳米半间距的经济高效的单次曝光光刻