Advanced Micro Devices, 1 AMD P1. MS 78, Sunnyvale, CA, USA 94088;
resolution enhancement techniques; optical proximity correction; design for manufacturing; design rule manual; design regularity; layout printability verification; pattern-matching; yield optimization;
机译:基于光学邻近效应校正的受限光学邻近效应校正模式生成-基于模型的光学邻近效应校正中的可制造性规则设计
机译:通过10nm节点工艺的混合光学邻近效应校正建模和收缩校正技术提高光学邻近效应校正模型的准确性
机译:与晶圆处理,光学邻近校正和物理设计流程的双重图案交互
机译:从光学邻近校正到光刻驱动的物理设计(1996-2006):下十年的10年分辨率增强技术和路线图推动器
机译:快速准确的光刻模拟和光学接近度校正,可用于制造的纳米设计
机译:支持超材料的设计增强了数十年的太空应用短时回射天线技术
机译:反向光刻作为DFm工具:利用基于模型的辅助特征放置,快速光学邻近校正和光刻热点检测加速设计规则开发