SemiSouth Laboratories 201 Research Boulevard Starkville MS 39759;
Naval Research Laboratory 4555 Overlook Avenue SW Washington DC 20375;
Mississippi State University Department of Electrical and Computer Engineering Starkville MS 39762;
SemiSouth Laboratories 201 Research Boulevard Starkvill;
机译:4度离轴4H SiC衬底上厚外延层生长的研究进展
机译:研究在4°和8°离轴衬底上生长的氮掺杂4H-SiC外延层的深能级
机译:通过化学气相沉积法在Si和C面4H SiC衬底上生长和表征SiC外延层
机译:添加HC1的2°轴外4H SiC基材上外延生长
机译:高功率器件的低轴外衬底上4H碳化硅的外延生长和表征。
机译:乙烯化学气相沉积法生长压力对4H-SiC衬底上生长的外延石墨烯的影响
机译:通过化学气相沉积法在Si和C面4H SiC衬底上生长和表征SiC外延层
机译:通过离子束沉积将外延siC层生长到轴上和轴外6H-siC衬底上。