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Influence of Initial Silicon Defects on Processes of the Dioxide Silicon Defect Formation

机译:初始硅缺陷对二氧化硅缺陷形成过程的影响

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摘要

Dioxide defect formation has been found out with the aid of modern research methods. It has been ascertained that both requirements of oxide cultivation and deficiency of initial silicon influence on processes of crystalline defects formation in dioxide,
机译:借助于现代研究方法已经发现了二氧化物缺陷的形成。已经确定,氧化物培养的要求和初始硅的缺乏都会影响二氧化钛中晶体缺陷形成的过程,

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