Department of Electronics and Electrical Communication Engineering, Indian Institute of Technology, Kharagpur -721302, India;
机译:沉积在(110)单晶金刚石和Si(100)基板上的纳米晶金刚石膜的生长动力学和摩擦学性能的对比研究
机译:Phonon-inpling在(311)和(100)基板上生长的隧道GaAs / ALAS超晶格中的相互作用
机译:(100)和(110)GaAs衬底上晶格匹配的CaxSr1-xF2的外延生长
机译:在(100)和(110)Si基板上的三栅FinFET中的声子和晶格动力学
机译:外延过渡金属氮化物中的晶格动力学和电子/声子相互作用。
机译:高压下I型包合物K8Si46的声子不稳定性和热学性质的晶格动力学研究
机译:阶段I氨的声子谱:从组合分子和晶格动力学计算中重新分配晶格模式对称性
机译:使用Lennard-Jones电位的fcc(100),(110)和(111)表面的声子。用分子动力学研究表面声子的温度依赖性