SEMATECH, Austin, TX;
DRAM chips; MIM devices; MOSFET; alumina; dielectric thin films; flash memories; molybdenum compounds; MANOS flash MOSFETs; MIM-DRAM type devices; MoON; defects; dielectrics; erase saturation; metal-alumina-nitride-oxide charge-trap NVM type devices; molybdenum-oxynitride electrodes; oxygen-bearing electrodes; thermal processing; work function;
机译:栅极功函数对Al_2O_3HfO_x / Al_2O_3 /石墨烯电荷陷阱存储设备中存储特性的影响
机译:电荷陷阱层电导率控制对使用IGZO通道和ZnO电荷陷阱层的顶栅存储薄膜晶体管的器件性能的影响
机译:一种提高基于快速NVM设备的半型I / O系统性能的方法
机译:高功函数氧气电极,用于提高Manos充电 - 陷阱NVM和MIM-DRAM型器件的性能
机译:系统评估金属栅电极的有效功函数及其对CMOS器件性能的影响。
机译:改进等离子喷涂阮内型镍钼电极以在碱性介质中高效析氢
机译:NVMRA:利用NVM改进基于NAND闪存的移动设备的随机写入操作
机译:电极污染的作用以及清洁和调节对高能脉冲功率器件性能的影响; IEEE电介质和电气绝缘材料特刊