机译:带边电子结构以及远程等离子体沉积(RPD)非晶(nc-)SiO_2和GeO_2中的预先存在的缺陷
机译:远程等离子体沉积非晶态SiO_2和GeO_2的能带电子结构和预先存在的缺陷
机译:远程等离子体沉积的GeO_2,具有类似于石英的Ge和O-局部键合:与SiO_2的带边缘态和O-空位比较
机译:带边电子状态和远程等离子体沉积(RPD)GeO2和SiO2中的预先存在的缺陷
机译:通过远程等离子体溅射沉积的湿气/氧气阻隔层的特性和性能。
机译:通过直接等离子体辅助氧化控制4H-SiC上生长的SiO2膜中的缺陷和过渡层
机译:原子层沉积的高k MOS结构中GeO2 / Ge界面缺陷的选择性钝化
机译:siO2,GeO2和中间si(x)Ge(1-x)O2组成的电子结构:实验和理论。