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陈心园; 黄建; 邓伟; 王维; 周筑文;
贵州师范学院物理与电子科学学院,贵州贵阳550018;
粒子模拟实验; 硅烷; 笑气; 二氧化硅; 等离子体加强化学沉积(PECVD); SiO2薄膜;
机译:N2O / SiH4流量比对低温远程等离子体增强化学沉积法沉积SiOx薄膜性能的影响
机译:SiH4 / N2O混合物中SiO2的PECVD的特征尺度模拟
机译:N2O / SiH4混合物中用于SiO2沉积的RF放电建模并与实验进行比较
机译:RF-PECVD中由(SiH4 + B2H6 + H2 + N2O)等离子体制备的p型氢化氧化硅薄膜中的蓝响应的改善,以用于非晶硅太阳能电池
机译:纳米尺度的生物传感:电化学沉积的纳米结构的阵列和单个纳米粒子表面等离子体共振显微镜的制备和表征。
机译:等离子体处理制备碳纳米管/ SiO2和碳纳米管/ SiO2 / Ag纳米颗粒杂化物
机译:化学沉积制备的Co-Fe-B薄膜的化学沉积及其表征
机译:Hg(1-x)Cd(x)Te上光化学沉积siO2薄膜的硼注入研究
机译:等离子体化学沉积的薄膜制备方法
机译:等离子体化学沉积制备金刚石相碳薄膜场致发射器的方法
机译:等离子体源和使用增强的等离子体蒸气化学沉积来沉积薄膜涂层的方法。
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