机译:带边电子结构以及远程等离子体沉积(RPD)非晶(nc-)SiO_2和GeO_2中的预先存在的缺陷
Department of Physics, North Carolina State University, Raleigh, NC 27695-8202, United States;
SiO_2 and GeO_2; band edge electronic structure; pre-existing defects; remote plasma processing; medium range order;
机译:远程等离子体沉积非晶态SiO_2和GeO_2的能带电子结构和预先存在的缺陷
机译:远程等离子体沉积的GeO_2,具有类似于石英的Ge和O-局部键合:与SiO_2的带边缘态和O-空位比较
机译:Ge和Si衬底上非晶体GeO_2的远程等离子体增强化学沉积
机译:带边电子状态和远程等离子体沉积(RPD)GeO2和SiO2中的预先存在的缺陷
机译:磷酸锆锗和黄铜矿中缺陷电子结构的第一性原理研究。
机译:利用远程等离子体原子层沉积系统沉积的HfO2薄膜对硅进行表面钝化
机译:非晶体SiO2:处理引起的与空缺的O原子固有键合位点相关的缺陷
机译:通过远程等离子体增强化学气相沉积(远程pECVD)生长的非晶硅合金中缺陷产生的基础研究。年度分包合同报告,1990年9月1日 - 1991年8月31日