【24h】

~119Sn Moessbauer spectroscopy investigation of heavily P-doped silicon

机译:〜119SN Moessbauer光谱调查重掺杂硅

获取原文

摘要

Utilzing radioactive ~119m~Sn probe atoms in isoconcentration P-doped silicon, by~119Sn Moessbauer emission spectroscopy the formation of probe atom-vacancy complexs is observed as a function of rapid thermal annealing temeprature and doping level. The results are discussed within the framework of a previously proposed model.
机译:在异单元浓缩硅中利用放射性〜119M〜Sn探针原子,通过〜119sn Moessbauer发射光谱,观察到探针原子空位复合物的形成作为快速的热退火抑制水平和掺杂水平的函数。 结果在先前提出的模型的框架内讨论。

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号