Nano-film; Ion-plasma sputtering; Structure; Conductivity; Switching effect;
机译:氢等离子体热处理对直流磁控溅射制备ZnO:Al薄膜性能的影响
机译:微波功率对ECR等离子体增强直流磁控溅射制备的类金刚石氢化碳膜性能的影响
机译:微波功率对ECR等离子增强直流磁控溅射制备的类金刚石氢化碳膜性能的影响
机译:尺寸效应对由离子等离子体溅射制备的Ge_2SB_2TE_5膜的电子性能的影响
机译:研究工艺参数变化对离子束溅射Sc2O3和HfO2薄膜的材料性能和激光损伤性能的影响。
机译:前驱体C2H2分数对磁控溅射沉积制备的含Si和Ag的非晶碳复合膜的组织和性能的影响
机译:微波功率对ECR等离子体增强直流磁控溅射制备氢化类金刚石薄膜性能的影响*