有機酸被覆炭酸カルシウムをテンプレートとした スケルトン粒子の合成におけるシリカフレーム構造制御

摘要

スケルトン粒子とは、キュービック状の骨格のみで形成され、ナノサイズの孔をもつシリカ粒子の ことであり[1]、有機酸修飾した炭酸カルシウム表面にゾルゲル反応を用いてシリカ源を反応させ、希釈酸で テンプレート粒子を溶解除去することによりシリカフレーム構造を得る（Fig.1）。スケルトン粒子はその独 特な形状から、従来の粒子とは異なるユニークな物性の発現が期待されている。そこで、本研究ではそのユ ニークな物性に影響を及ぼすと考えられるシリカフレームの構造を制御することに着目し、スケルトン粒子 の合成条件のうち、シリカフレーム構造に最も違いが表れやすいと考えられる温度条件と反応時間を変える ことによって、スケルトン粒子のシリカフレーム構造にどのような影響を及ぼすのかを調査した。